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鉬濺射靶材

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濺射是一種先進(jìn)的薄膜材料制備技術(shù),它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中加速聚集成高速離子流,轟擊固體表面,離子和固體表面的原子發(fā)生動(dòng)能交換,使固體表面的原子離開靶材并沉積在基材表面,從而形成納米或微米薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。鎢靶材和鉬靶材可在各類基材上形成薄膜,這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產(chǎn)品,如目前廣泛應(yīng)用的TFT-LCD(薄膜半導(dǎo)體管-液晶顯示器)、等離子顯示屏、無機(jī)光發(fā)射二極管顯示器、場(chǎng)發(fā)射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導(dǎo)體裝置以及具有可調(diào)諧功函數(shù)CMOS(互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)的場(chǎng)效應(yīng)晶體管柵極等。


  近年來,作為L(zhǎng)CD(液晶顯示)、PDP(等離子顯示)等平面顯示器的電極和配線材料的鉬系合金靶越來越受到人們的關(guān)注。在TFt-LCD中,柵電極是一個(gè)關(guān)鍵部件,以前主要是用Cr/A1作為柵電極材料,隨著平面顯示器的大型化和高精度化,對(duì)材料的比阻抗要求越來越高,鉬的比阻抗和膜應(yīng)力僅為鉻的1/2,同時(shí),由于鉻在蝕刻過程中會(huì)產(chǎn)生六價(jià)態(tài)Cr,對(duì)環(huán)境和健康有害,因此現(xiàn)在越來越多的公司改用Mo/A1作為柵電極材料,這樣對(duì)鉬靶材的需求也就越來越大。在鉬靶材的應(yīng)用中,鉬合金的研究也越來越多,為進(jìn)一步提高純鉬在耐腐蝕性(變色)和密著性(膜的剝離),在鉬中添加V、Nb、W、Ta則會(huì)使比電阻、應(yīng)力及耐蝕性等各種性能更好。



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